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Ausschreibungen

EBeam Lithographer

Geschlossen

Einreichungsfrist abgelaufen

Die Einreichungsfrist für diese Ausschreibung ist abgelaufen und es werden keine weiteren Bewerbungen mehr angenommen. Die nachstehenden Informationen werden zu Referenzzwecken aufbewahrt.

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Frist
Abgelaufen
19. Februar 2026
Vertragsdetails
Kategorie
Restricted Procedure
Referenz
018498-2026
Wert
£2,398,869
Standort
United Kingdom, Vereinigtes Königreich
Veröffentlicht
29. Juli 2026
CPV-Code
Zeitplan des Projekts

Ausschreibung veröffentlicht

2. März 2026

Frist für Fragen

12. Februar 2026

Angebotsfrist

19. Februar 2026

Budget
£2,398,869
Dauer
Nicht angegeben
Standort
United Kingdom
Typ
Restricted Procedure

Ursprüngliche Ausschreibungsbeschreibung

The University has a requirement for an Electron Beam lithography system which has an acceleration voltage of at least 200 kV. It must be capable of the following: a) Ultra-fine line lithography: 3 nm linewidth, using commercially available resists. This can be obtained by its single-nm digit beam diameter. b) Ultra-high position accuracy: This can be obtained by a laser interferometer with Å (sub-1 nm) reading resolution, enabling a stitching accuracy of ±8 nm and overlay accuracy of ±8 nm. c) Uniform fine pattern writing over entire field: Uniform nm-scale lines can be drawn from edge to edge across a large field (≥2000μm) without the need for stitching. This guarantees better accuracy, eliminates the need for stage movement, and enhances writing speed and throughput. d) High throughput lithography: This will be enabled by a 125 MHz (or higher) high-speed deflection system coupled with a new electron beam column design. e) Wafer scale (& multi wafer) processing: Single cassette auto-loader supporting 8-inch wafers with a multi-cassette automatic sample loading system. Fast loading and pumping time. f) Flexibility in sample holders: Offer the ability to simultaneously handle a variety of wafer sizes by incorporating distinct holders for processing full wafers (2-8 inches) and/or small. g) Software: SEM Imaging Software, Alignment Software and CAD designing Software, which allows using and/or converting into industry standard GDSII and DXF file formats. It is believed the JEOL JBX-8100FS G3 Electron Beam Lithography System is the sole machine which complies with these requirements. Therefore, we deem competition is absent for technical reasons.

Risikoanalyse

Die Risikoanalyse ist für Ausschreibungen in diesem Land noch nicht verfügbar. Aktuell unterstützt: Estland, Lettland, Litauen, Polen, Frankreich, Großbritannien, Dänemark, Niederlande, Norwegen und Finnland.

Erfolgsstrategie

Erhalten Sie eine KI-gestützte Gewinnstrategie, die auf diese Ausschreibung zugeschnitten ist. Beinhaltet Gewinnwahrscheinlichkeits-Score, wichtige Chancen und Herausforderungen, empfohlene Schwerpunkte für Angebote, Einblicke in die Wettbewerbspositionierung und umsetzbare Empfehlungen zur Maximierung Ihrer Chancen.

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Wettbewerber

Upgrade, um zu sehen, welche Unternehmen wahrscheinlich auf diese Ausschreibung bieten werden, basierend auf historischen Beschaffungsdaten.

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Anforderungen & Qualifikationen

KI extrahiert und organisiert alle Anforderungen aus den Ausschreibungsunterlagen – obligatorische Qualifikationen, technische Spezifikationen, finanzielle Bedingungen und Einreichungsregeln – klar kategorisiert, damit Sie genau wissen, was für ein Angebot erforderlich ist.

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Grundlegende Anforderungen

  • Company registration in EU required
  • Proven track record in similar projects
  • Financial stability documentation

Dokumente

3 Dokumente mit KI-Zusammenfassungen verfügbar

OCDS RecordDOC
018498-2026_ocds_record.json

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OCDS Release PackageDOC
018498-2026_ocds_release.json

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Official PDF VersionPDF
018498-2026_official.pdf

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Qualitätsbewertung

Umfassende Qualitätsanalyse dieser Ausschreibung, die rechtliche Konformität, Klarheit, Vollständigkeit, Fairness, Praktikabilität, Datenkonsistenz und Nachhaltigkeit auf einer Skala von 0-100 mit detaillierter Aufschlüsselung und Empfehlungen bewertet.

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