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Ausschreibungen

Tiefenreaktiver Ionenätzer (DRIE)

Offen
Frist
29 Tage verbleibend
9. November 2026
Vertragsdetails
Kategorie
Sonstiges
Referenz
11167918
Wert
Nicht angegeben
Standort
SE121, Sweden
Veröffentlicht
4. Oktober 2026
Organisation
Uppsala universitet
CPV-Code
Zeitplan des Projekts

Ausschreibung veröffentlicht

7. Oktober 2026

Frist für Fragen

2. November 2026

Angebotsfrist

9. November 2026

Original anzeigen
Budget
Nicht angegeben
Dauer
Nicht angegeben
Standort
SE121
Typ
Sonstiges

Ursprüngliche Ausschreibungsbeschreibung

Myfab Uppsala aims at purchasing a Deep Reaction Ion Etcher (DRIE). The purpose of the tool is to transfer patterns defined by e.g., photo- and electron beam lithography covering the pattens size range from all substrate range down to a few nanometres. The system will be used by many operators in a university laboratory environment. It must be easy to use and be insensitive to frequent change of process between batches. The processes include broad range of etching capability: low to high etch ra

Risikoanalyse

Die Risikoanalyse ist für Ausschreibungen in diesem Land noch nicht verfügbar. Aktuell unterstützt: Estland, Lettland, Litauen, Polen, Frankreich, Großbritannien, Dänemark, Niederlande, Norwegen und Finnland.

Erfolgsstrategie

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Wettbewerber

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Anforderungen & Qualifikationen

KI extrahiert und organisiert alle Anforderungen aus den Ausschreibungsunterlagen – obligatorische Qualifikationen, technische Spezifikationen, finanzielle Bedingungen und Einreichungsregeln – klar kategorisiert, damit Sie genau wissen, was für ein Angebot erforderlich ist.

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Grundlegende Anforderungen

  • Company registration in EU required
  • Proven track record in similar projects
  • Financial stability documentation

Dokumente

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Qualitätsbewertung

Umfassende Qualitätsanalyse dieser Ausschreibung, die rechtliche Konformität, Klarheit, Vollständigkeit, Fairness, Praktikabilität, Datenkonsistenz und Nachhaltigkeit auf einer Skala von 0-100 mit detaillierter Aufschlüsselung und Empfehlungen bewertet.

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